초록 ▼

본 발명은 반도체 전(前) 공정에서 발생하는 공정가스 배출용 배관을 히팅하여 고형 파우더 발생을 최소화하기 위한 히팅자켓을 제어, 감시하기 위한 반도체 공정가스 배출 장비에 최적화된 히팅자켓용 제어 시스템을 개시한다. 본 발명은 이를 위하여 결선을 최소화하고 히터에 흐르는 전류를 감지하되, 이상 과전류 발생시 파워스위칭부를 구성하는 복수개의 요소 중 어느 하나의 작동으로 신속한 차단이 가능하여 안전한 운용이 가능하도록 한다. 이에 따라 본 발명은 복수개의 히팅자켓을 배기 배관에 시공함에 있어서, 시공작업 공수가 크게 감소하여 작업성

본 발명은 반도체 전(前) 공정에서 발생하는 공정가스 배출용 배관을 히팅하여 고형 파우더 발생을 최소화하기 위한 히팅자켓을 제어, 감시하기 위한 반도체 공정가스 배출 장비에 최적화된 히팅자켓용 제어 시스템을 개시한다. 본 발명은 이를 위하여 결선을 최소화하고 히터에 흐르는 전류를 감지하되, 이상 과전류 발생시 파워스위칭부를 구성하는 복수개의 요소 중 어느 하나의 작동으로 신속한 차단이 가능하여 안전한 운용이 가능하도록 한다. 이에 따라 본 발명은 복수개의 히팅자켓을 배기 배관에 시공함에 있어서, 시공작업 공수가 크게 감소하여 작업성이 향상되며 시공 비용을 절감할 수 있게 되고 전체 시스템의 안전한 운용이 가능하게 되는 유용한 효과가 있다.

대표청구항

히터가 내장되어 반도체 공정가스 배기배관의 둘레에 설치되는 히팅자켓;상기 히팅자켓의 외주면에 분산배치되며, 요입구조물이 형성된 거치대; 및저면에 체결편이 형성되어 상기 거치대의 요입구조물에 체결되어 상기 히팅자켓에 착탈방식으로 결합되는 컨트롤 모듈;을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 공정가스 배출 장비에 최적화된 히팅자켓용 제어 시스템.

히터가 내장되어 반도체 공정가스 배기배관의 둘레에 설치되는 히팅자켓;상기 히팅자켓의 외주면에 분산배치되며, 요입구조물이 형성된 거치대; 및저면에 체결편이 형성되어 상기 거치대의 요입구조물에 체결되어 상기 히팅자켓에 착탈방식으로 결합되는 컨트롤 모듈;을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 공정가스 배출 장비에 최적화된 히팅자켓용 제어 시스템.