최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
---|---|---|
국제특허분류(IPC8판) |
|
|
출원번호 | 10-2022-7001498 (2022-01-14) | |
공개번호 | 10-2022-0010075 (2022-01-25) | |
등록번호 | 10-2529738-0000 (2023-05-02) | |
우선권정보 | 미국(US) 63/027,939 (2020-05-20) | |
국제출원번호 | PCT/US2021/070577 (2021-05-19) | |
국제공개번호 | WO 2021/237240 (2021-11-25) | |
번역문제출일자 | 2022-01-14 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020227001498 | |
발명자 / 주소 |
|
|
출원인 / 주소 |
|
|
대리인 / 주소 |
|
|
심사청구여부 | 있음 (2022-01-14) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
다양한 실시 예들은 반도체 및 관련 분야에서 사용된 프로세싱 툴에서 복수의 프로세싱 스테이션들을 동시에 세정하기 위해 지향성 플로우 디바이스와 함께 리모트-플라즈마 세정 시스템을 사용하기 위한 장치들, 시스템들, 및 방법들을 포함한다.일 예에서, 멀티-스테이션 프로세스 챔버에서 RPC (remote-plasma clean) 를 수행하도록 사용된 장치가 개시되고 RPC 반응기와 프로세스 챔버 사이에 커플링될 RPC 지향성 플로우 디바이스를 포함한다.RPC 지향성 플로우 디바이스는 RPC 반응기에 의해 생성된 적어도 라디칼 종을 프로세
반도체 프로세싱에 사용하기 위한 장치에 있어서,리모트-플라즈마 반응기와 복수의 프로세싱 스테이션들을 갖는 멀티-스테이션 프로세스 챔버 사이에 커플링되도록 구성되는 리모트-플라즈마 지향성 플로우 디바이스로서, 상기 리모트-플라즈마 지향성 플로우 디바이스는,복수의 램핑된 가스 전환 영역들 (ramped gas-diversion areas) 로서, 상기 복수의 램핑된 가스 전환 영역들 각각의 영역들은 상기 리모트 플라즈마 반응기에 의해 생성된 적어도 라디칼 종들을 상기 멀티-스테이션 프로세스 챔버 내의 상기 복수의 프로세싱 스테이션들 중
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.