초록 ▼

비례 열 유체 전달 시스템을 사용하는 기판 캐리어가 설명된다.일 예에서, 장치는, 기판 캐리어의 유체 채널에 열 유체를 제공하고 그리고 유체 채널로부터 열 유체를 수신(receive)하기 위한 열 교환기를 포함하며, 유체 채널 내의 열 유체는 기판 프로세싱 동안 캐리어의 온도를 제어하기 위한 것이다.비례 밸브(proportional valve)가 열 교환기로부터 유체 채널로의 열 유체의 유량을 제어한다.온도 제어기는, 캐리어의 열 센서로부터 측정된 온도를 수신하며, 그리고 유량을 조정하기 위해, 측정된 온도에 응답하여 비례 밸브를

비례 열 유체 전달 시스템을 사용하는 기판 캐리어가 설명된다.일 예에서, 장치는, 기판 캐리어의 유체 채널에 열 유체를 제공하고 그리고 유체 채널로부터 열 유체를 수신(receive)하기 위한 열 교환기를 포함하며, 유체 채널 내의 열 유체는 기판 프로세싱 동안 캐리어의 온도를 제어하기 위한 것이다.비례 밸브(proportional valve)가 열 교환기로부터 유체 채널로의 열 유체의 유량을 제어한다.온도 제어기는, 캐리어의 열 센서로부터 측정된 온도를 수신하며, 그리고 유량을 조정하기 위해, 측정된 온도에 응답하여 비례 밸브를 제어한다.

대표청구항 ▼

워크피스를 프로세싱하기 위한 방법으로서, 플라즈마 챔버에서 가스 이온들을 포함하는 플라즈마를 생성하는 단계; 워크피스 홀더 상의 워크피스에 상기 플라즈마를 적용(applying)하는 단계;유체 채널에 열 유체를 제공하고 상기 유체 채널로부터 상기 열 유체를 수신하는 열 교환기, 및 상기 유체 채널에 제 2 열 유체를 제공하는 제 2 열 교환기를 사용하여, 상기 워크피스 홀더의 열 유체 채널을 통해 상기 워크피스의 온도를 조절하는 단계를 포함하고,상기 유체 채널 내의 상기 열 유체는 기판 프로세싱 동안, 상기 열 교환기로부터 상기 유

워크피스를 프로세싱하기 위한 방법으로서, 플라즈마 챔버에서 가스 이온들을 포함하는 플라즈마를 생성하는 단계; 워크피스 홀더 상의 워크피스에 상기 플라즈마를 적용(applying)하는 단계;유체 채널에 열 유체를 제공하고 상기 유체 채널로부터 상기 열 유체를 수신하는 열 교환기, 및 상기 유체 채널에 제 2 열 유체를 제공하는 제 2 열 교환기를 사용하여, 상기 워크피스 홀더의 열 유체 채널을 통해 상기 워크피스의 온도를 조절하는 단계를 포함하고,상기 유체 채널 내의 상기 열 유체는 기판 프로세싱 동안, 상기 열 교환기로부터 상기 유체 채널로의 상기 열 유체의 유량을 제어하기 위한 비례 밸브, 및 상기 워크피스 홀더의 열 센서로부터 측정된 온도를 수신하며 상기 측정된 온도에 응답하여 상기 비례 밸브를 제어하여 상기 열 유체의 유량을 조정하는 온도 제어기를 사용하여, 상기 워크피스 홀더의 온도를 제어하며,상기 열 교환기는 저온(cold) 열 유체를 제공하고, 상기 제 2 열 교환기는 고온(hot) 열 유체를 제공하며, 상기 열 유체 및 상기 제 2 열 유체는 폴리에테르들(polyethers)을 포함하는, 워크피스를 프로세싱하기 위한 방법.