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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2023-0010387 (2023-01-26) | |
등록번호 | 10-2615310-0000 (2023-12-11) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020230010387 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2023-01-26) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 오염 발생원에서 발생되는 악취 및 오염 물질을 포함한 가스를 3차에 걸쳐 직렬 처리하여 악취 물질과 오염 물질의 제거효율을 극대화시킬 수 있는 악취 및 오염 물질 처리 장치에 관한 것으로, 오염 발생원으로부터 발생되는 처리 대상 가스가 제 1 덕트를 통해 유입되어 1 차 플라즈마 처리되는 1 차 처리 장치; 및 상기 1 차 처리 장치로부터 제 2 덕트를 통해 플라즈마 처리된 가스가 유입되어 2 차 라디칼 처리 및 3 차 고집진 처리가 이루어지는 2 차 처리 장치; 를 포함하는 것을 특징으로 한다.
오염 발생원으로부터 발생되는 처리 대상 가스가 제 1 덕트를 통해 유입되어 1 차 플라즈마 처리되는 1 차 처리 장치; 및 상기 1 차 처리 장치로부터 제 2 덕트를 통해 플라즈마 처리된 가스가 유입되어 2 차 라디칼 처리 및 3 차 고집진 처리가 이루어지는 2 차 처리 장치; 를 포함하며, 상기 1 차 처리 장치는, 하부에 배치되고 내부 수용 공간을 가지게 폐쇄 구조로 형성되며, 상기 제 1 덕트와 측면이 연통되어 유입되는 처리 대상 가스를 수용하는 하부 수용 챔버;상기 하부 수용 챔버의 상면과 연통되어 처리 대상 가스가 상향으로
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