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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2023-7017059 (2023-05-19) | |
공개번호 | 10-2023-0140551 (2023-10-06) | |
등록번호 | 10-2645493-0000 (2024-03-05) | |
우선권정보 | 일본(JP) JP-P-2022-048896 (2022-03-24);일본(JP) JP-P-2022-113470 (2022-07-14) | |
국제출원번호 | PCT/JP2023/011631 (2023-03-23) | |
국제공개번호 | WO 2023/182458 (2023-09-28) | |
번역문제출일자 | 2023-05-19 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020237017059 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2023-05-19) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
하기 식 (1)에 나타내는 조성으로 표시되는 리튬 이온 전지용 정극 활물질이며,LiaNibCocMndMeOf (1)(식 (1) 중, 1.0≤a≤1.05, 0.8≤b≤0.9, b+c+d+e=1, 1.8≤f≤2.2, 0.0025≤e/(b+c+d+e)≤0.016, M은 Zr, Ta 및 W로부터 선택되는 적어도 1종임)FE-EPMA에 의한 50㎛×50㎛의 시야에서의 정극 활물질 입자의 WDX 매핑 분석에 있어서, 정극 활물질 입자의 표면에 M의 산화물이 부착되어 있으며, 또한, M의 산화물이 정극 활물질 입자의 표면에 부착되지 않은 독
하기 식 (1)에 나타내는 조성으로 표시되는 리튬 이온 전지용 정극 활물질이며,LiaNibCocMndMeOf (1)(상기 식 (1) 중, 1.0≤a≤1.05, 0.8≤b≤0.9, b+c+d+e=1, 1.8≤f≤2.2, 0.0025≤e/(b+c+d+e)≤0.016, M은 Zr, Ta 및 W로부터 선택되는 적어도 1종임)FE-EPMA에 의한 50㎛×50㎛의 시야에서의 정극 활물질 입자의 WDX 매핑 분석에 있어서, 상기 정극 활물질 입자의 표면에 상기 M의 산화물이 부착되어 있으며, 또한, 상기 M의 산화물이 상기 정극 활물질 입자
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