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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2023-7026375 (2023-08-02) | |
공개번호 | 10-2023-0120676 (2023-08-17) | |
우선권정보 | 미국(US) 63/199,044 (2020-12-03) | |
국제출원번호 | PCT/US2021/060159 (2021-11-19) | |
국제공개번호 | WO 2022/119732 (2022-06-09) | |
번역문제출일자 | 2023-08-02 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020237026375 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2023-08-02) | |
심사진행상태 | 거절결정(일반) | |
법적상태 | 거절 |
보잉된 반도체 기판의 배면 상에 증착된 보우 보상 층은 비대칭적인 보잉을 완화시키기 위해 응력을 조절할 수도 있다.일부 구현 예들에서, 보우 보상 층은 보잉된 반도체 기판을 따른 비선형 질량 유량 프로파일에 따라 배면에 인접한 전구체 농도를 달라지게 (vary) 함으로써 형성될 수도 있다.전구체 플로우는 포물선 함수 또는 다항식 함수와 매칭하거나 실질적으로 매칭하는 방식으로 달라질 수도 있다.일부 구현 예들에서, 샤워헤드 페데스탈은 보잉된 반도체 기판을 따라 전구체 플로우를 달라지게 할 수도 있고, 여기서 샤워헤드 페데스탈은 제 1
하나 이상의 인장 영역들 및 하나 이상의 압축 영역들을 갖는 보잉된 (bow) 반도체 기판을 제공하는 단계;상기 보잉된 반도체 기판의 배면 (backside) 상의 일 영역에 제 1 비선형 두께 프로파일을 갖는 압축 막을 증착하는 단계; 및상기 압축 막을 증착하기 전 또는 증착한 후, 상기 압축 막이 증착되는 상기 보잉된 반도체 기판의 배면 상의 일 영역과 동일한 영역에 인장 막을 증착하는 단계로서, 상기 인장 막은 상기 보잉된 반도체 기판의 배면 상의 상기 일 영역 상에 상기 제 1 비선형 두께와 반대되는 제 2 비선형 두께 프로
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