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연합인증

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촬상소자, 적층형 촬상소자 및 고체 촬상 장치 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01L-027/146
출원번호 10-2023-7031656 (2023-09-15)
공개번호 10-2023-0136688 (2023-09-26)
우선권정보 일본(JP) JP-P-2017-121200 (2017-06-21);일본(JP) JP-P-2018-115847 (2018-06-19)
국제출원번호 PCT/JP2018/023598 (2018-06-21)
국제공개번호 WO 2018/235895 (2018-12-27)
번역문제출일자 2023-09-15
DOI http://doi.org/10.8080/1020237031656
발명자 / 주소
  • 와타나베 타이이치로 / 일본국 가나가와켄 아츠기시 아사히쵸 *-**-* 소니 세미컨덕터 솔루션즈 가부시키가이샤 내
  • 코가 후미히코 / 일본국 가나가와켄 아츠기시 아사히쵸 *-**-* 소니 세미컨덕터 솔루션즈 가부시키가이샤 내
  • 이토 쿄스케 / 일본국 가나가와켄 아츠기시 아사히쵸 *-**-* 소니 세미컨덕터 솔루션즈 가부시키가이샤 내
  • 토가시 히데아키 / 일본국 쿠마모토켄 키쿠치군 키쿠요마치 오아자하라미즈 ****-* 소니 세미컨덕터 매뉴팩츄어링 가부시키가이샤 내
  • 스기모리 유사쿠 / 일본국 가나가와켄 아츠기시 아사히쵸 *-**-* 소니 세미컨덕터 솔루션즈 가부시키가이샤 내
출원인 / 주소
  • 소니 세미컨덕터 솔루션즈 가부시키가이샤 / 일본국 가나가와켄 아츠기시 아사히쵸 *-**-*
대리인 / 주소
  • 최달용
법적상태 공개

초록

촬상소자는, 제1 전극(11), 광전변환층(13) 및 제2 전극(12)이 적층되어 이루어지는 광전변환부를 구비하고 있고, 광전변환부는, 또한, 제1 전극(11)과 이간하여 배치되고, 또한, 절연층(82)을 통하여 광전변환층(13)과 대향하여 배치된 전하 축적용 전극(14)을 구비하고 있고, 광전변환층(13)에 광이 입사하여 광전변환층(13)에서 광전변환이 생길 때, 전하 축적용 전극(14)에 대향하는 광전변환층(13)의 부분(13C)에 가하여지는 전위의 절대치는, 인접하는 촬상소자의 사이에 위치하는 광전변환층(13)의 영역(13B)

대표청구항

제1 전극, 광전 변환층, 및 제2 전극을 포함하는 광전 변환부를 포함하고,상기 광전 변환층은 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 배치되고,상기 광전 변환부는 상기 제1 전극과 이격되어 절연층을 통해 상기 광전 변환층과 대향하도록 배치된 전하 축적 전극을 더 포함하고,광검출 소자와 인접하는 광검출 소자 사이에 위치하는 상기 광전 변환층의 영역과 상기 절연층을 통해 대향하는 영역에 배치된 전하 이동 제어 전극을 포함하고,상기 제1 전극은 상기 광검출 소자와 상기 인접하는 광검출 소자에 의해 공유되는 것을 특징으로 하는 광검출 소

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. [한국] 플로팅 확산 영역의 커패시턴스를 제어할 수 있는 공유픽셀형 이미지 센서 | 백기현, 이석하, 이강복
  2. [한국] 이미지 센서 | 최혁순, 윤정빈, 안정착
  3. [일본] SOLID-STATE IMAGING DEVICE | SASAKI HIROKI, OGURO TATSUYA, YAMASHITA HIROSHI
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