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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2024-7002802 (2024-01-24) | |
공개번호 | 10-2024-0031325 (2024-03-07) | |
우선권정보 | 영국(GB) 2109566.6 (2021-07-01) | |
국제출원번호 | PCT/EP2022/068183 (2022-06-30) | |
국제공개번호 | WO 2023/275316 (2023-01-05) | |
번역문제출일자 | 2024-01-24 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020247002802 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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본 발명은 AMX 화합물을 포함하는 입자들을 포함하는 패턴화된 필름의 제조 방법으로서, 상기 방법은: (a) 기판 상에 배치되는 포토레지스트 층을 제공하는 단계 - 상기 포토레지스트 층은 포토레지스트와 AMX 화합물을 포함하는 입자들의 혼합물을 포함함 -; (b) 상기 포토레지스트 층의 영역들을 노광시켜 상기 포토레지스트 층 상에 패턴을 정의함으로써, 패턴화된 포토레지스트 층을 제조하는 단계; 및 (c) 상기 패턴화된 포토레지스트 층을 현상액으로 처리하여, AMX 화합물을 포함하는 입자들을 포함하는 상기 패턴화된 필름을 제조하는 단
AMX 화합물을 포함하는 입자들을 포함하는 패턴화된 필름의 제조 방법으로서, 상기 방법은:(a) 기판 상에 배치되는 포토레지스트 층을 제공하는 단계, 상기 포토레지스트 층은 포토레지스트와 AMX 화합물을 포함하는 입자들의 혼합물을 포함함;(b) 상기 포토레지스트 층의 영역들을 노광시켜 상기 포토레지스트 층 상에 패턴을 정의함으로써, 패턴화된 포토레지스트 층을 제조하는 단계; 및(c) 상기 패턴화된 포토레지스트 층을 현상액으로 처리하여, AMX 화합물을 포함하는 입자들을 포함하는 상기 패턴화된 필름을 제조하는 단계,상기 현상액은 용매
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