선택한 단어 수는 입니다.
최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
선택한 단어 수는 30입니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개실용신안 |
---|---|
국제특허분류(IPC8판) |
|
출원번호 | 20-1988-0012369 (1988-07-29) |
공개번호 | 20-1990-0002973 (1990-02-07) |
DOI | http://doi.org/10.8080/2019880012369 |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
[청구범위] 1. 알루미늄박판을 화학적으로 부식시키는 에칭장치에 있어서, 내부에 염산이 들어가는 케이스(1)는 사각형으로 형성하되, 이 케이스(1)의 상단중앙과 좌우측에는 식각될 알루미늄박판(3)이 고정되는 고정구(4)와 탄소전극(5)이 고정되는 전극고정구(6)를 설치하고, 상기 케이스(1)의 외벽에는 온도조정을 정확하게 할 수 있는 테이프 히터(7)를 감아서 된 것을 특징으로 하는 알루미늄박판 에칭장치.
대표청구항이 없습니다.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.