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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개실용신안 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 20-1995-0038427 (1995-12-05) |
공개번호 | 20-1997-0046602 (1997-07-31) |
DOI | http://doi.org/10.8080/2019950038427 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
[청구범위] 1.웨이퍼척위에 놓인 웨이퍼에 현상액을 분사하는 노즐과 상기 노즐과 현상액 저장 탱크를 연결하는 노즐관으로 이루어지는 노즐 조립체를 포함하는 반도체 현상장비의 현상액 분사장치에 있어서, 상기 노즐 조립체의 높낮이를 조절하기 위한 수단을 구비하여 웨이퍼의 사이즈에 따라 현상액의 분사 범위를 조정할 수 있도록 한 것을 특징으로 하는 반도체 현상장비의 현상액 분사장치.[청구범위] 2.제1항에 있어서, 상기 높낮이 조절수단은 노즐 조립체에 연결, 설치되어 노즐 조립체를 상승 및 하강시키는 스텝핑 모터와, 상기 스텝핑 모터의 동
대표청구항이 없습니다.
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