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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록실용신안 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 20-1998-0019903 (1998-10-17) |
공개번호 | 20-2000-0008272 (2000-05-15) |
등록번호 | 20-0334727-0000 (2003-11-20) |
DOI | http://doi.org/10.8080/2019980019903 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2001-02-20) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 고안은 반도체 제조용 웨이퍼의 핸들링 장치에 관한 것으로서, 웨이퍼 핸들링용 흡착유니트의 구조를 개선하여 웨이퍼의 흡착 및 탈거시 압력변화에 따른 웨이퍼의 튕김 현상을 방지함으로써 상기 웨이퍼의 면상에 이물질의 묻음을 최소화 할 수 있도록 한 것이다.이를 위해 본 고안은 반도체 웨이퍼를 핸들링하기 위해 일단이 로봇(20)에 연결되고 그 내부는 진공력을 전달하도록 진공유로(31)가 형성된 흡착유니트(300)와, 상기 진공유로상에 형성되어 상기 진공유로를 통해 전달된 진공력으로 웨이퍼를 흡착하는 진공구멍(33)을 구비하여서 된 것에
반도체 웨이퍼를 핸들링하기 위해 일단이 로봇에 연결되고 그 내부는 진공력을 전달하도록 진공유로가 형성된 흡착유니트와, 상기 진공유로상에 형성되어 상기 진공유로를 통해 전달된 진공력으로 웨이퍼를 흡착하는 진공구멍을 구비하여서 된 것에 있어서,상기 진공유로를 복수개로 구비하고, 상기 각 진공유로의 입구측에는 상기 각 진공유로를 선택적으로 차단할 수 있도록 유로차단수단을 구비하여 흡착유니트에 웨이퍼의 흡착시나 탈거시 상기 각 진공유로로 전달되는 진공력을 순차적으로 전달 혹은 차단함으로써 순간적인 압력변화를 감소시킴에 따라 웨이퍼의 튕김을
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