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| 국가/구분 | 한국(KR)/등록실용신안 |
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| 국제특허분류(IPC9판) |
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| 출원번호 | 20-1998-0027682 (1998-12-30) |
| 공개번호 | 20-2000-0014379 (2000-07-25) |
| 등록번호 | 20-0261175-0000 (2002-01-08) |
| DOI | http://doi.org/10.8080/2019980027682 |
| 발명자 / 주소 | |
| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 | 있음 (1998-12-30) |
| 심사진행상태 | 등록결정(일반) |
| 법적상태 | 소멸 |
본 고안은 웨이퍼의 기판상에 잠상(潛像)으로 금속막 패턴을 형성하는 과정 및 웨이퍼를 세정하는 과정에서 사용되는 세정액이나 코팅용제 등의 약액을 약액저장조에 공급할 때 그 구성물질들의 혼합을 간편하게 함과 아울러 약액의 농도와 유량제어를 용이하게 할 수 있게한 반도체 웨이퍼 세정용 약액 공급장치에 관한 것으로,즉, 웨이퍼가 투입된 세정조에 각종의 약액을 직접적으로 공급하되 그 공급관로상에 적산유량계의 작용에 의해 공급량을 조절하는 제어장치를 설치하여 약액의 공급량 및 혼합률을 정확하게 제어하고 상기 제어장치의 입력측 공급관로에 약액
웨이퍼의 기판상에 금속막 패턴을 형성하거나 웨이퍼를 세정하기 위한 세정액 또는 코팅용제 등의 약액이 수용되는 세정조(10)와, 이 세정조(10)의 상부 일측에 배관되어 각종 약액을 동시에 혹은 선택적으로 공급하기 위한 다수의 약액공급관(20)과, 상기 세정조(10)에 각종 약액을 직접적으로 공급하는 약액공급관(20)의 관로상에 설치되어 약액의 공급유량을 측정하는 적산유량계(30)와 약액의 공급을 차단하는 자동밸브(40)와, 이 자동밸브(40)에 연결되어 적산유량계에서 측정된 유량신호를 설정된 데이터와 비교·판단한 결과에 따라 개폐신
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