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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개실용신안 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 20-1998-0028065 (1998-12-30) |
공개번호 | 20-2000-0014735 (2000-07-25) |
DOI | http://doi.org/10.8080/2019980028065 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (1998-12-30) |
심사진행상태 | 거절결정(일반) |
법적상태 | 거절 |
본 고안은 가압 가스 냉각에서의 가스 재순환 장치에 관한 것으로서, 플라즈마 침탄, 진공 침탄 및 진공 열처리 등의 고온 열처리에서 시료를 가압 가스를 이용하여 냉각시킬 때 시료를 냉각시키고 난 후 고온이 된 가스를 냉각 과정과 재순환 과정을 거쳐 재사용이 가능하도록 함에 그 목적이 있다. 이를 위해 구성되는 본 고안은 챔버에서 시료를 열처리 한 후 챔버의 내부에 가압 가스를 충진시켜 시료를 냉각시키는 표면경화 열처리 장치에 있어서, 챔버에서 배출되는 고온의 가압 가스를 챔버의 내부로 재유입되도록 하는 재순환 가스관, 재순환 가스
챔버에서 시료를 열처리 한 후 상기 챔버의 내부에 가압 가스를 충진시켜 상기 시료를 냉각시키는 표면경화 열처리 장치에 있어서,상기 챔버에서 배출되는 고온의 가압 가스를 상기 챔버의 내부로 재유입되도록 하는 수단;상기 가압 가스 재유입 수단의 적소에 설치되어 상기 고온의 가압 가스를 냉각시키는 수단; 및상기 가압 가스 재유입 수단의 적소에 설치되어 상기 가스 냉각 수단에 의해 냉각된 가스를 상기 챔버의 내부로 강제 송입시키는 수단을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 가압 가스 냉각에서의 가스 재순환 장치.
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