초록 ▼

본 고안은 가압 가스 냉각에서의 가스 재순환 장치에 관한 것으로서, 플라즈마 침탄, 진공 침탄 및 진공 열처리 등의 고온 열처리에서 시료를 가압 가스를 이용하여 냉각시킬 때 시료를 냉각시키고 난 후 고온이 된 가스를 냉각 과정과 재순환 과정을 거쳐 재사용이 가능하도록 함에 그 목적이 있다. 이를 위해 구성되는 본 고안은 챔버에서 시료를 열처리 한 후 챔버의 내부에 가압 가스를 충진시켜 시료를 냉각시키는 표면경화 열처리 장치에 있어서, 챔버에서 배출되는 고온의 가압 가스를 챔버의 내부로 재유입되도록 하는 재순환 가스관, 재순환 가스

본 고안은 가압 가스 냉각에서의 가스 재순환 장치에 관한 것으로서, 플라즈마 침탄, 진공 침탄 및 진공 열처리 등의 고온 열처리에서 시료를 가압 가스를 이용하여 냉각시킬 때 시료를 냉각시키고 난 후 고온이 된 가스를 냉각 과정과 재순환 과정을 거쳐 재사용이 가능하도록 함에 그 목적이 있다. 이를 위해 구성되는 본 고안은 챔버에서 시료를 열처리 한 후 챔버의 내부에 가압 가스를 충진시켜 시료를 냉각시키는 표면경화 열처리 장치에 있어서, 챔버에서 배출되는 고온의 가압 가스를 챔버의 내부로 재유입되도록 하는 재순환 가스관, 재순환 가스관의 적소에 설치되어 재순환 가스관으로 유동되는 고온의 가압 가스를 냉각시키는 열교환기 및 재순환 가스관의 적소에 설치되어 송풍기에 의해 냉각된 가스를 챔버의 내부로 강제 송입시키는 송풍기를 포함하여 이루어진다. 이러한 구성에 의해 본 고안은 열처리된 고온의 시료를 가압 가스를 이용하여 냉각시킬 때 한 번 사용하고 나온 고온의 가스를 열교환기와 송풍기를 사용하여 재사용이 가능하도록 할 수 있는 효과가 발휘된다.

대표청구항

챔버에서 시료를 열처리 한 후 상기 챔버의 내부에 가압 가스를 충진시켜 상기 시료를 냉각시키는 표면경화 열처리 장치에 있어서,상기 챔버에서 배출되는 고온의 가압 가스를 상기 챔버의 내부로 재유입되도록 하는 수단;상기 가압 가스 재유입 수단의 적소에 설치되어 상기 고온의 가압 가스를 냉각시키는 수단; 및상기 가압 가스 재유입 수단의 적소에 설치되어 상기 가스 냉각 수단에 의해 냉각된 가스를 상기 챔버의 내부로 강제 송입시키는 수단을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 가압 가스 냉각에서의 가스 재순환 장치.

챔버에서 시료를 열처리 한 후 상기 챔버의 내부에 가압 가스를 충진시켜 상기 시료를 냉각시키는 표면경화 열처리 장치에 있어서,상기 챔버에서 배출되는 고온의 가압 가스를 상기 챔버의 내부로 재유입되도록 하는 수단;상기 가압 가스 재유입 수단의 적소에 설치되어 상기 고온의 가압 가스를 냉각시키는 수단; 및상기 가압 가스 재유입 수단의 적소에 설치되어 상기 가스 냉각 수단에 의해 냉각된 가스를 상기 챔버의 내부로 강제 송입시키는 수단을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 가압 가스 냉각에서의 가스 재순환 장치.