초록 ▼

본 고안은 전기소자용 열처리장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 적층 세라믹소자 또는 반도체부품 등을 소성·소결하기 위한 열처리장치에 관한 것으로, 유량제어수단(110)을 구비한 가스공급장치와, 제어성 가열수단(120) 및 온도감지수단(130)을 구비하고 상기 가스공급장치에 연결되어 가스를 공급받는 반응로(kiln)(100)와, 상기 반응로로부터 배출되는 가스의 양을 조절하기 위한 배기밸브(140)를 구비한 열처리 장치에 있어서, 상기 배기밸브의 개폐정도를 표시하기 위한 표시수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 소자용 열처리 장치를

본 고안은 전기소자용 열처리장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 적층 세라믹소자 또는 반도체부품 등을 소성·소결하기 위한 열처리장치에 관한 것으로, 유량제어수단(110)을 구비한 가스공급장치와, 제어성 가열수단(120) 및 온도감지수단(130)을 구비하고 상기 가스공급장치에 연결되어 가스를 공급받는 반응로(kiln)(100)와, 상기 반응로로부터 배출되는 가스의 양을 조절하기 위한 배기밸브(140)를 구비한 열처리 장치에 있어서, 상기 배기밸브의 개폐정도를 표시하기 위한 표시수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 소자용 열처리 장치를 제공함으로써 배기밸브의 개폐정도를 수치화하여 배기가스의 배출량을 정밀하게 조절하는 것이 가능해져 반응로의 압력, 온도 및 가스체류시간 등의 조절을 안정적으로 할 수 있고 또한 에너지 및 가스의 소모량을 줄일 수 있다.

대표청구항

유량제어수단(110)을 구비한 가스공급장치와, 제어성 가열수단(120) 및 온도감지수단(130)을 구비하고 상기 가스공급장치에 연결되어 가스를 공급받는 반응로(100)와, 상기 반응로로부터 배출되는 가스의 양을 조절하기 위한 배기밸브(140)를 구비한 열처리 장치에 있어서,상기 배기밸브(140)의 개폐정도를 표시하기 위한 표시수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 소자용 열처리 장치.

유량제어수단(110)을 구비한 가스공급장치와, 제어성 가열수단(120) 및 온도감지수단(130)을 구비하고 상기 가스공급장치에 연결되어 가스를 공급받는 반응로(100)와, 상기 반응로로부터 배출되는 가스의 양을 조절하기 위한 배기밸브(140)를 구비한 열처리 장치에 있어서,상기 배기밸브(140)의 개폐정도를 표시하기 위한 표시수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 소자용 열처리 장치.