초록 ▼

RF 임피던스 정합 네트워크(33)의 전기적 접지(36)는 플라즈마 챔버의 접지된 챔버 커버(18) 상의 연결 영역(50)에 연결된다.이러한 연결 영역은 챔버 커버의 중심으로부터 벗어나 가공물 통로(20)를 향해 오프셋되어 있다.대안적으로, RF 전력 공급부(30)는 이러한 오프셋을 갖는 챔버 커버 상의 연결 영역(52)에 연결되는 전기적으로 접지된 출력(32)을 갖는다.대안적으로, RF 송신 라인(37)은 이러한 오프셋을 갖는 챔버 커버 상의 연결 영역(52)과 RF 전력 공급부의 접지된 출력 사이에 연결되는 전기적으로 접지된 도

RF 임피던스 정합 네트워크(33)의 전기적 접지(36)는 플라즈마 챔버의 접지된 챔버 커버(18) 상의 연결 영역(50)에 연결된다.이러한 연결 영역은 챔버 커버의 중심으로부터 벗어나 가공물 통로(20)를 향해 오프셋되어 있다.대안적으로, RF 전력 공급부(30)는 이러한 오프셋을 갖는 챔버 커버 상의 연결 영역(52)에 연결되는 전기적으로 접지된 출력(32)을 갖는다.대안적으로, RF 송신 라인(37)은 이러한 오프셋을 갖는 챔버 커버 상의 연결 영역(52)과 RF 전력 공급부의 접지된 출력 사이에 연결되는 전기적으로 접지된 도전체(39)를 갖는다.

대표청구항 ▼

플라즈마 챔버에 RF 전력을 커플링하기 위한 장치로서,플라즈마 챔버 내부를 둘러싸는 전기적으로 접지된 챔버 벽 ― 상기 전기적으로 접지된 챔버 벽은 챔버 커버 및 챔버 측벽을 포함함 ―;상기 챔버 측벽 내의 가공물 통로;전기적으로 도전성이 있고 복수의 가스 통로들을 포함하는 샤워헤드; 및RF 임피던스 정합 네트워크를 포함하고, 상기 RF 임피던스 정합 네트워크는:(i) RF 전력을 수신하도록 구성되는 입력,(ii) 상기 샤워헤드에 전기적으로 연결되는 출력, 및(iii) 상기 챔버 커버 상의 하나 또는 그 초과의 연결 영역들에 전기적

플라즈마 챔버에 RF 전력을 커플링하기 위한 장치로서,플라즈마 챔버 내부를 둘러싸는 전기적으로 접지된 챔버 벽 ― 상기 전기적으로 접지된 챔버 벽은 챔버 커버 및 챔버 측벽을 포함함 ―;상기 챔버 측벽 내의 가공물 통로;전기적으로 도전성이 있고 복수의 가스 통로들을 포함하는 샤워헤드; 및RF 임피던스 정합 네트워크를 포함하고, 상기 RF 임피던스 정합 네트워크는:(i) RF 전력을 수신하도록 구성되는 입력,(ii) 상기 샤워헤드에 전기적으로 연결되는 출력, 및(iii) 상기 챔버 커버 상의 하나 또는 그 초과의 연결 영역들에 전기적으로 연결되는 전기적 접지를 포함하고, 상기 챔버 커버 상의 상기 하나 또는 그 초과의 연결 영역들은 상기 챔버 커버의 중심으로부터 벗어나 상기 가공물 통로를 향해 오프셋되어 있는 상기 챔버 커버 상의 제1 연결 영역을 포함하는, 플라즈마 챔버에 RF 전력을 커플링하기 위한 장치.