최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 공개 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0145850 (2008-06-25) |
공개번호 | US-0000942 (2009-01-01) |
우선권정보 | KR-10-2007-0063042(2007-06-26) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 0 |
A pulse plasma matching system includes an RF matching box configured to receive an RF power pulse generated by an RF power source, configured to perform a plasma impedance matching, and configured to apply the RF power pulse to a process chamber, and a network analyzer configured to measure an impe
What is claimed is: 1. A pulse plasma matching system, comprising: an RF matching box configured to receive an RF power pulse generated by an RF power source, configured to perform a plasma impedance matching, and configured to apply the RF power pulse to a process chamber; a network analyzer confi
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.