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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0439176 (2007-08-20) |
공개번호 | US-0205370 (2009-08-20) |
우선권정보 | EP-06120242.0(2006-09-07) |
국제출원번호 | PCT/EP07/058625 (2007-08-20) |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 0 |
Sol-gel process for the production of large glass monoliths, whereby tetraalkoxysilane is added to a dispersion of pyrogenically produced silica and the ratio of SiO2:TEOS is 2.6 to 5.5:1.
1. Sol-gel process for producing glass monoliths comprising the following steps: (a) adding pyrogenically prepared silica to a water at acidic pH to obtain dispersed silica; (b) adding silicon alkoxide to the dispersed silica, whereby the silica/silica alkoxide molar ratio is in the ratio from 2.5-5
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