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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0878195 (2010-09-09) |
공개번호 | US-0056515 (2011-03-10) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 0 |
Methods of cleaning a processing chamber with nitrogen trifluoride (NF3) are described. The methods involve a concurrent introduction of nitrogen trifluoride and a reactive diluent into the chamber. The NF3 may be excited in a plasma inside the chamber or in a remote plasma region upstream from the
What is claimed is: 1. A method of cleaning a process chamber with NF3, the method comprising:introducing a cleaning mixture to the chamber, wherein the cleaning mixture comprises the NF3 or reactive species generated from the NF3, and a reactive diluent;reacting a first fluorine-containing species
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