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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0274042 (2014-05-09) |
공개번호 | US-0325406 (2015-11-12) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 0 |
A semiconductor substrate inspection system includes an e-beam inspection system configured to deliver electrons to a specimen semiconductor substrate. A sensor is configured to detect reflected electrons that reflect off the surface of the specimen semiconductor substrate. An analysis unit is confi
1. A method of inspecting a semiconductor substrate, the method comprising: delivering a beam of electrons to the semiconductor substrate and generating a first image having a plurality of pixels based on electrons emitted from the semiconductor substrate;determining a number of electrons emitted by
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