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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0484985 (2017-04-11) |
공개번호 | US-0294198 (2018-10-11) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 0 |
Methods and systems for etching substrates using a remote plasma are described. Remotely excited etchants are formed in a remote plasma and flowed through a showerhead into a substrate processing region to etch the substrate. Optical emission spectra are acquired from the substrate processing region
1. A method of etching a substrate, the method comprising: placing the substrate in a substrate processing region of a substrate processing chamber;flowing a fluorine-containing precursor into a remote plasma region separated from the substrate processing region by a showerhead;forming a remote plas
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