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NTIS 바로가기한국진공학회 2014년도 제46회 동계 정기학술대회 초록집, 2014 Feb. 10, 2014년, pp.262.2 - 262.2
Jang, Hae-Gyu , Lee, Hak-Seung , Park, Jeong-Geon , Chae, Hui-Yeop
Plasma processing is an essential process for pattern etching and thin film deposition in nanoscale semiconductor device fabrication. It is necessary to maintain plasma chamber in steady-state in production. In this study, we determined plasma chamber state with residual gas analysis with self-plasm...
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