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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | 16595496 (2019-10-08) |
공개번호 | 20200109468 (2020-04-09) |
우선권정보 | TW-107135447 (2018-10-08) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 0 |
A vacuum process apparatus includes a process chamber, a load lock, a carrier, a process device, and an evacuating device. The process chamber has an opening. The load lock is disposed on the process chamber. The carrier includes a first carrying surface and a second carrying surface opposite to the
1. A vacuum process apparatus, comprising: a process chamber having an opening;a load lock disposed on the process chamber;a carrier comprising a first carrying surface and a second carrying surface, which is opposite to the first carrying surface, wherein the carrier is reversibly disposed on the o
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