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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | 18530033 (2023-12-05) |
공개번호 | 20240102169 (2024-03-28) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 0 |
This application relates to a method of inspection and an inspection system for the film deposition process for substrates that includes glass and wafer. The inspection system includes multiple camera modules positioned in a load lock unit of a process chamber, such as the camera modules that can ca
1. A method of inspecting a substrate, the method comprising: causing, at a controller, one or more cameras to capture at least one first image of one or more portions of a substrate disposed inside a load lock chamber of a film deposition apparatus after the substrate is received from an outside of
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