[특허]Recovery of hydrofluoric acid from aqueous fluosilicic acid

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Recovery of hydrofluoric acid from aqueous fluosilicic acid 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C01B-033/08 C01B-033/10 C01B-033/12 C01B-007/22
출원번호	US-0400810 (1973-09-26)
우선권정보	DT-2248149 (1972-09-30)
발명자 / 주소	Becker Wolf (Cologne DT) Weiss Wolfgang (Cologne DT)
출원인 / 주소	Bayer Aktiengesellschaft (DT 03)
인용정보	피인용 횟수 : 5 인용 특허 : 0

초록 ▼

Recovery of hydrofluoric acid from aqueous fluosilicic acid by treating said aqueous fluosilicic acid at a temperature of from 100°to 300°C. and under a pressure of from 3 to 80 atmospheres and separating resulting hydrogen fluoride containing aqueous phase and silicon tetrafluoride containing gaseous phase and optionally hydrolyzing the silicon tetrafluoride containing gaseous phase in aqueous medium and recycling the aqueous fluosilicic acid to the process as starting material.

대표청구항 ▼

A process for recovering hydrofluoric acid from aqueous fluosilicic acid consisting essentially of water and fluosilicic acid which comprises heating said aqueous fluosilicic acid at a temperature of from 100°to 300°C. and under a pressure of from 7 to 80 atmospheres gauge to obtain a hydrogen fluoride containing aqueous phase and a silicon tetrafluoride containing gaseous phase and separating said hydrogen fluoride containing aqueous phase and silicon tetrafluoride containing gaseous phase.

이 특허를 인용한 특허 (5)

Kindig James K. (Boulder CO) Reynolds James E. (Golden CO), Integrated coal cleaning process with mixed acid regeneration.
상세보기
Leathers Joel F. M. (Midland MI) Calvin Donald W. (Zachary LA), Method for distilling a ternary azeotrope of fluorosilicic acid, hydrogen fluoride and water.
상세보기
Chieng Paul C. (Terre Haute IN), Method of production of high purity silica and ammonium fluoride.
상세보기
Schimmel Gnther (Erftstadt DEX), Process for working-up an aqueous silicohydrofluoric acid solution.
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Leveque Alain (Paris FRX) Triollier Michel (Gouvieux FRX), Purification of solutions of gallium values by serial ion exchange-liquid/liquid extraction.
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특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

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[특허] Hydrofluoric acid reprocessing for semiconductor standards

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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