[특허]Apparatus for treatment of semiconductor wafer

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C23C-013/12
출원번호	US-0599471 (1975-07-28)
발명자 / 주소	Nagasawa Koichi (Amagasaki JA) Kijima Koichi (Itami JA)
출원인 / 주소	Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha (Tokyo JA 03)
인용정보	피인용 횟수 : 19 인용 특허 : 0

초록 ▼

An apparatus for treatment of a semiconductor wafer comprises a sealable treating vessel which forms a sealed treating chamber in the vessel when sealed. A gas feeder feeds a compressed gas to the treating chamber. A heating device is disposed out of the treating chamber. The semiconductor wafer in

대표청구항 ▼

Apparatus for the treatment of a semiconductor wafer comprising: an inner treating vessel, an outer vessel, the inner treating vessel being disposed within the outer vessel, a semiconductor wafer disposed within the inner treating vessel, a first gas feeder, a first pressure adjuster, a second gas feeder, a second pressure adjuster, means connecting the first gas feeder to the first pressure adjuster, means connecting the first pressure adjuster to the inner treating vessel, means connecting the second gas feeder to the second pressure adjuster, means connecting the second pressure adjuster to the outer vessel, the first pressure adjuster maintaining the pressure within the inner treating vessel substantially the same as the pressure in the outer vessel, the second pressure adjuster maintaining the pressure within the outer vessel substantially the same as the pressure in the inner treating vessel, a heater disposed within the outer vessel surrounding the inner treating vessel and having no portion thereof within the inner treating vessel to heat the first gas and to prevent the first gas from being contaminated by the heater.

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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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