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Field emission electron gun 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01J-037/073
출원번호 US-0299341 (1989-01-23)
우선권정보 JP-0015288 (1988-01-25)
발명자 / 주소
  • Miyokawa Toshiaki (Tokyo JPX)
출원인 / 주소
  • Jeol Ltd. (Tokyo JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 6  인용 특허 : 9

초록

There is disclosed a field emission electron gun comprising a field emission tip, an extraction electrode for producing an electric field that extracts electrons from the tip, and an accelerating electrode for accelerating the electrons extracted by the extraction electrode. The extraction electrode

대표청구항

A field emission electron gun comprising: a field emission tip; an extraction electrode for producing an electron beam along an optical axis by extracting electrons from said tip, wherein said extraction electrode is shaped like an inverted cone the side of which is inclined at a first angle to a pl

이 특허에 인용된 특허 (9)

  1. Smith Kenneth C. A. (Cambridge GB2), Electron beam apparatus.
  2. Coates Vincent J. (Los Altos CA) Welter Leonard M. (Saratoga CA), Field emission electron gun.
  3. Fukuhara Satoru (Kokubunji JPX) Todokoro Hideo (Tokyo JPX) Sakitani Yoshio (Saitama JPX), Field emission electron gun.
  4. Endo Junji (Kokubunji JPX) Tonomura Akira (Koganei JPX) Ozasa Susumu (Kashiwa JPX) Matsuda Tsuyoshi (Tokyo JPX) Kimura Chikara (Katsuta JPX) Osakabe Nobuyuki (Kokubunji JPX), Field emission type electron microscope using a multi-stage acceleration tube.
  5. Braun Martin (San Jose CA), High power x-ray source with improved anode cooling.
  6. Martin Joe A. (Madison WI) Lagally Max G. (Madison WI), Low voltage field emission electron gun.
  7. Haimson Jacob (Mountain View CA), Method and apparatus incorporating no moving parts, for producing and selectively directing x-rays to different points o.
  8. Ohtsuki Mitsuo (Sunnyvale CA) Denney Lloyd W. (Menlo Park CA), Method for electron gun alignment in electron microscopes.
  9. Armini Anthony J. (Bedford MA) Kreisman Wallace S. (Malden MA), X-Ray lithography source tube.

이 특허를 인용한 특허 (6)

  1. Ooaeh Yoshihisa,JPX ; Abe Tomohiko,JPX ; Yamada Akio,JPX ; Yasuda Hiroshi,JPX ; Kudoh Kenj,JPX ; Takahata Kouzi,JPX, Charged-particle-beam exposure device and charged-particle-beam exposure method.
  2. Ooaeh Yoshihisa,JPX ; Abe Tomohiko,JPX ; Yamada Akio,JPX ; Yasuda Hiroshi,JPX ; Kudoh Kenj,JPX ; Takahata Kouzi,JPX, Charged-particle-beam exposure device and charged-particle-beam exposure method.
  3. Ooaeh Yoshihisa,JPX ; Yamada Akio,JPX ; Yasuda Hiroshi,JPX, Charged-particle-beam exposure device and charged-particle-beam exposure method.
  4. Miyazaki, Takeshi; Ohyi, Hideyuki; Obara, Takashi, Electron beam applying apparatus and drawing apparatus.
  5. Sato, Mitsugu, Field emission scanning electron microscope and method of controlling beam aperture angle.
  6. Khursheed Anjam,SGX ; Phang Jacob Chee Hong,SGX ; Thong John Thiam Leong,SGX, Portable high resolution scanning electron microscope column using permanent magnet electron lenses.
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