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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0048195 (1987-05-11) |
우선권정보 | GB-0012009 (1986-05-16) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 7 |
A method is provided for controlling an electron beam pattern generator which writes a pattern on a substrate with an electron beam. A pattern store holds the defining coordinates of a set of trapezia 9, 13, 14, 15, 16 which together constitute the pattern. The set of trapezia in the store are divid
A method of controlling an electron beam pattern generator comprising an electron beam generation and deflection system for writing a pattern on a substrate with a spot formed by an electron beam, a pattern store for holding the defining coordinates of a set of trapezia which together constitute the
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