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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0661813 (1991-02-27) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 200 인용 특허 : 0 |
An automatic impedance matching apparatus for matching an RF-signal generator to a load, such as a plasma etching chamber, is disclosed. The matching apparatus comprises a matching network having two variable impedance devices, a tune detector for detecting the condition of the impedance match betwe
An automatic impedance matching apparatus having an input port coupled to a signal generator and an output port coupled to a load, said input and output ports each having a signal line and a ground line, said signal generator having a predetermined characteristic impedance, said apparatus comprising
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