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Methods and apparatus for controlling film deposition 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-014/24
  • C23C-014/54
출원번호 US-0036344 (1993-03-24)
발명자 / 주소
  • Bischer
  • Jr. Carmen B. (Hayward CA) Small
  • Jr. Edward A. (Santa Rosa CA)
출원인 / 주소
  • Dielectric Coating Industries (Hayward CA 02)
인용정보 피인용 횟수 : 8  인용 특허 : 0

초록

Apparatus and method for increasing the time that a quartz crystal can sense the rate at which evaporated material is broadcast onto a substrate wherein a chopper employing a disk with a slot is disposed between the source of the evaporated material and the crystal to reduce the exposure of the crys

대표청구항

In a control system utilizing a crystal for monitoring the rate of deposition of vaporized material from a material source, the improvements comprising: chopper means disposed between the source of vaporized material and the crystal, wherein said chopper means alternatively blocks vaporized material

이 특허를 인용한 특허 (8)

  1. Olson Roger Allen ; Kopitzke ; III Frederick William ; O'Connor Joseph Patrick, Continuous vapor deposition apparatus.
  2. Leonard, William K.; Louks, John W., Fluid transport media.
  3. Wary John ; Beach William F. ; Olson Roger A., Internally heated pyrolysis zone.
  4. Ohara, Hiroki, Method for manufacturing a device.
  5. Wary John ; Beach William F. ; Olson Roger A., Parylene polymer layers.
  6. Tran Chuong Van, Thin film deposition chamber.
  7. Nomura Fumiyasu,JPX ; Saito Takeshi,JPX, Thin-film-coated substrate manufacturing methods having improved film formation monitoring and manufacturing apparatus.
  8. Sorrells,David F.; Bultman,Michael J.; Cook,Robert W.; Looke,Richard C.; Moses, Jr.,Charley D., Wireless and wired cable modem applications of universal frequency translation technology.
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