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Organosilicon compositions 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B32B-015/00
  • C08K-005/09
  • C08G-077/06
출원번호 US-0764829 (1991-09-24)
발명자 / 주소
  • Babcock Laura M. (New Castle County DE) Brady Richard L. (New Castle County DE) Burnier Julia S. (New Castle County DE)
출원인 / 주소
  • Hercules Incorporated (Wilmington DE 02)
인용정보 피인용 횟수 : 8  인용 특허 : 0

초록

A crosslinked organosilicon polymer or crosslinkable organosilicon prepolymer comprising: (A) alternating (a) cyclic polysiloxane or tetrahedral siloxysilane residues and (b) polycyclic hydrocarbon residues derived from polycyclic polyenes having at least two non-aromatic, non-conjugated carbon-carb

대표청구항

A composition comprising: (A) a crosslinkable organosilicon prepolymer comprising alternating (a) cyclic polysiloxane or tetrahedral siloxysilane residues and (b) polycyclic hydrocarbon residues derived from polycyclic polyenes having at least two non-aromatic, non-conjugated carbon-carbon double bo

이 특허를 인용한 특허 (8)

  1. Mukhopadhyay, Sudip; Pandey, Yamini; Dankers, Lea, Anti-reflective coatings for optically transparent substrates.
  2. Mukhopadhyay, Sudip; Pandey, Yamini; Dankers, Lea, Anti-reflective coatings for optically transparent substrates.
  3. Varaprasad, Desaraju; Korolev, Boris; Mukhopadhyay, Sudip, Coating formulations for optical elements.
  4. Krishnamoorthy, Ahila; Spear, Richard; Gebrebrhan, Amanuel, Compositions, layers and films for optoelectronic devices, methods of production and uses thereof.
  5. Tabei,Eiichi, Curable composition.
  6. Beisele, Christian; Kainmüller, Thomas; Tang, Qian, Hydrophobic epoxide resin system.
  7. Gordon, Glenn Viaplana; Leaym, Tina Marie; Schmidt, Randall Gene; Wieber, Gary Michael, Organosiloxane resin-polyene materials.
  8. Musa,Osama M., Siloxane resins with oxetane functionality.
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