최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0004470 (1993-01-14) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 21 인용 특허 : 0 |
A method of quality control for targets intended for use in the sputtering process. A test parameter is established by immersing the target in a tank of liquid, irradiating the target with ultrasonic energy in the Rayleigh frequency range, and integrating the portion of the ultrasonic energy which p
A method of non-destructively testing a sputtering target having parallel front and back walls and comprising sputtering material of an approximately known nominal grain diameter, wherein a test parameter is obtained that is predictably related to the standard deviation of variations from a mean thi
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.