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Method of non-destructively testing a sputtering target 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01N-029/00
출원번호 US-0004470 (1993-01-14)
발명자 / 주소
  • Bouchard Frederic (Grove City OH) Dittmar Mark B. (Grove City OH)
출원인 / 주소
  • Tosoh SMD, Inc. (Grove City OH 02)
인용정보 피인용 횟수 : 21  인용 특허 : 0

초록 ▼

A method of quality control for targets intended for use in the sputtering process. A test parameter is established by immersing the target in a tank of liquid, irradiating the target with ultrasonic energy in the Rayleigh frequency range, and integrating the portion of the ultrasonic energy which p

대표청구항 ▼

A method of non-destructively testing a sputtering target having parallel front and back walls and comprising sputtering material of an approximately known nominal grain diameter, wherein a test parameter is obtained that is predictably related to the standard deviation of variations from a mean thi

이 특허를 인용한 특허 (21)

  1. Leroy Michel,FRX ; Muller Jean,FRX, Cathode sputtering targets selected by ultrasonic inspection for their low level of particle emission.
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  2. Leroy Michel,FRX ; Muller Jean,FRX, Cathode sputtering targets with a low level of particle emission, precursors of these targets, and processes for obtain.
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  3. Leybovich, Alexander, Cleanliness evaluation in sputter targets using phase.
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  4. Gilman Paul S. ; Snowman Alfred ; Desert Andre, Determination of actual defect size in cathode sputter targets subjected to ultrasonic inspection.
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  5. Michaluk, Christopher A.; Huber, Jr., Louis E., High purity niobium and products containing the same, and methods of making the same.
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  6. Christopher A. Michaluk ; Louis E. Huber ; Mark N. Kawchak ; James D. Maguire, High purity tantalum, products containing the same, and methods of making the same.
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  7. Michaluk, Christopher A.; Huber, Louis E.; Kawchak, Mark N.; Maguire, Jr., James D., High purity tantalum, products containing the same, and methods of making the same.
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  8. Michaluk, Christopher A.; Huber, Louis E.; Kawchak, Mark N.; Maguire, Jr., James D., High purity tantalum, products containing the same, and methods of making the same.
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  9. Michaluk,Christopher A.; Huber,Louis E.; Kawchak,Mark N.; Maguire, Jr.,James D., High purity tantalum, products containing the same, and methods of making the same.
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  10. Mallard Richard L., Immersion testing porous semiconductor processing components.
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  11. Leybovich, Alexander, Method and apparatus for non-destructive target cleanliness characterization by types of flaws sorted by size and location.
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  12. Alexander Leybovich, Method and apparatus for quantitative sputter target cleanliness and characterization.
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  13. Wickersham, Jr.,Charles E.; Poole,John E.; Leybovich,Alexander; Zhu,Lin, Method for determining a critical size of an inclusion in aluminum or aluminum alloy sputtering target.
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  14. Alexander Leybovich, Method of ultrasonic on-line texture characterization.
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  15. Russell B. Gore ; Ronald H. Fleming, Methods of testing sputtering target materials.
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  16. Wickersham, Jr., Charles E.; Poole, John E.; Leybovich, Alexander; Zhu, Lin, Sputter targets and methods of manufacturing same to reduce particulate emission during sputtering.
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  17. Dubois, Marc; Deaton, Jr., John B.; Lorraine, Peter W.; Drake, Jr., Thomas E.; Filkins, Robert J., System and method of determining porosity in composite materials using ultrasound.
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  18. Leybovich,Alexander, Systems and methods for non-contact measuring sputtering target thickness ultrasonics.
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  19. Michael Francis Xavier Gigliotti, Jr. ; Robert Snee Gilmore ; John Broddus Deaton, Jr. ; John Alan Sutliff, Titanium-based alloys having improved inspection characteristics for ultrasonic examination, and related processes.
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  20. Bernard Patrick Bewlay ; John Broddus Deaton, Jr. ; Michael Francis Xavier Gigliotti, Jr. ; Robert Snee Gilmore, Ultrasonic inspection method and system for detecting critical flaws.
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  21. Taylor,Steven C.; Kraft,Nancy C., Ultrasonic transducer.
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