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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0095950 (1993-07-22) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 86 인용 특허 : 0 |
The aperture plate of the present invention is positioned between a sputter target and a substrate to be coated with a film of target material. The substantially non-collimating plate contains a plurality of apertures which intercept a percentage of the sputter particles while allowing other sputter
A reactive sputter deposition apparatus for reactively depositing a uniform film and reducing the formation of a reactive film layer on the surface of the sputter target including an evacuatable chamber, the apparatus further comprising: a mount for holding a sputter target within the evacuatable ch
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