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Dual collimated deposition apparatus and method of use 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-014/34
출원번호 US-0767576 (2001-01-22)
발명자 / 주소
  • Paranjpe, Ajit
  • Schwartz, Peter
  • Kools, Jacques
  • Song, Kang
  • Heimanson, Dorian
  • Moslehi, Mehrdad
출원인 / 주소
  • Veeco Instruments, Inc.
대리인 / 주소
    Gray, Cary, Ware & Freidenrich
인용정보 피인용 횟수 : 6  인용 특허 : 13

초록

A dual collimation deposition apparatus and method are disclosed in which the dual collimation apparatus includes at least a long-throw collimator in combination with one or more physical collimators. A new physical collimator and shield design are also disclosed for improved process uniformity and

대표청구항

A dual collimation deposition apparatus and method are disclosed in which the dual collimation apparatus includes at least a long-throw collimator in combination with one or more physical collimators. A new physical collimator and shield design are also disclosed for improved process uniformity and

이 특허에 인용된 특허 (13)

  1. Demaray R. Ernest (Oakland CA) Hoffman Vance E. (Los Altos CA) Helmer John C. (Menlo Park CA) Park Young H. (San Ramon CA) Cochran Ronald R. (Mountain View CA), Collimated deposition apparatus and method.
  2. Mosely Roderick C. (Mountain View CA) Raaijmakers Ivo J. (San Jose CA) Hanawa Hiroji (Santa Clara CA), Collimation hardware with RF bias rings to enhance sputter and/or substrate cavity ion generation efficiency.
  3. Tepman Avi (Cupertino CA), Cylindrical sputtering shield.
  4. Cuomo Jerome J. (Lincolndale NY) Gambino Richard J. (Yorktown Heights NY) Harper James M. (Yorktown Heights NY) Kupstis John D. (Yorktown Heights NY), Energetic particle beam deposition system.
  5. Hurwitt Steven (Park Ridge NJ), Extended lifetime collimator.
  6. Koyama Shuji,JPX ; Kawajiri Yukio,JPX ; Shibata Makoto,JPX ; Sueoka Manabu,JPX ; Suzuki Toshio,JPX ; Yamamoto Hisashi,JPX ; Suzuki Takumi,JPX, Film forming apparatus with particle prevention plate.
  7. Shiratori Tsutomu,JPX ; Hongu Kazuoki,JPX, Information recording medium and method for producing the same.
  8. Alex Michael (Milpitas CA), Modification and selection of the magnetic properties of magnetic recording media through selective control of the cryst.
  9. Sone Kazuho,JPX, Reactive sputtering apparatus and process for forming thin film using same.
  10. Yoshikawa Masatoshi,JPX ; Yoda Hiroaki,JPX ; Hashimoto Susumu,JPX, Soft magnetic alloy film and manufacturing method thereof, and magnetic head incorporating the same.
  11. Sakata Masao (Kanagawa JPX) Shimamura Hideaki (Kanagawa JPX) Kobayashi Shigeru (Tokyo JPX) Kawahito Tsuneyoshi (Kanagawa JPX) Kamei Tsuneaki (Kanagawa JPX) Abe Katsuo (Kanagawa JPX), Sputtering apparatus with film forming directivity.
  12. Hurwitt Steven D. (Park Ridge NJ) Wagner Israel (Monsey NY), Stationary aperture plate for reactive sputter deposition.
  13. Sawada Susumi (Kitaibaraki JPX) Kanou Osamu (Kitaibaraki JPX) Wada Hironori (Kitaibaraki JPX) Anan Junichi (Kitaibaraki JPX) Seki Takakazu (Kitaibaraki JPX), Thin film deposition system.

이 특허를 인용한 특허 (6)

  1. Norman, Jr.,Robert L., Adjustable suspension assembly for a collimating lattice.
  2. Oh, Seongshik; Kim, Yong-Seung, Self-gettering differential pump.
  3. Gopalraja, Praburam; Fu, Jianming; Tang, Xianmin; Forster, John C.; Kelkar, Umesh, Self-ionized and capacitively-coupled plasma for sputtering and resputtering.
  4. Ding, Peijun; Tao, Rong; Xu, Zheng; Lubben, Daniel C.; Rengarajan, Suraj; Miller, Michael A.; Sundarrajan, Arvind; Tang, Xianmin; Forster, John C.; Fu, Jianming; Mosely, Roderick C.; Chen, Fusen; Gopalraja, Praburam, Self-ionized and inductively-coupled plasma for sputtering and resputtering.
  5. Ding, Peijun; Tao, Rong; Xu, Zheng; Lubben, Daniel C.; Rengarajan, Suraj; Miller, Michael A.; Sundarrajan, Arvind; Tang, Xianmin; Forster, John C.; Fu, Jianming; Mosely, Roderick C.; Chen, Fusen; Gopalraja, Praburam, Self-ionized and inductively-coupled plasma for sputtering and resputtering.
  6. Ding, Peijun; Tao, Rong; Xu, Zheng; Lubben, Daniel C.; Rengarajan, Suraj; Miller, Michael A.; Sundarrajan, Arvind; Tang, Xianmin; Forster, John C.; Fu, Jianming; Mosely, Roderick C.; Chen, Fusen; Gopalraja, Praburam, Self-ionized and inductively-coupled plasma for sputtering and resputtering.
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