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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0158729 (1993-11-29) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 21 인용 특허 : 0 |
A cathode body for a rotating cylindrical magnetron wherein the magnetron provides a sputtering zone extending along the length of the cathode body and circumferentially along a relatively narrow region thereof. The cathode body includes an elongated tubular member having a target material at the ou
A rotating cylindrical magnetron sputtering apparatus for D.C. reactive sputtering a film of silicon dioxide on a substrate using a gas discharge, comprising: an evacuable coating chamber; a cathode including an elongated cylindrical tubular member having a layer of silicon at the surface thereof an
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