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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0153658 (2014-01-13) |
등록번호 | US-9809876 (2017-11-07) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 9 |
An endblock for a rotatable sputtering target, such as a rotatable magnetron sputtering target, is provided. A sputtering apparatus, including one or more such endblock(s), includes locating the electrical contact(s) (e.g., brush(es)) between the collector and rotor in the endblock(s) in an area und
1. A sputtering apparatus comprising: at least one endblock for supporting an end of a cylindrical rotatable sputtering target, the endblock including a fixed conductive collector and a rotatable conductive rotor for rotating with the cylindrical sputtering target during sputtering operations;the en
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