[특허]Method of making substractive rim phase shifting masks

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B44C-001/22
출원번호	US-0489777 (1995-06-13)
발명자 / 주소	Rolfson J. Brett (Boise ID)
출원인 / 주소	Micron Technology, Inc. (Boise ID 02)
인용정보	피인용 횟수 : 27 인용 특허 : 0

초록 ▼

An improved method for fabricating phase shifting masks suitable for semiconductor manufacture is provided. A photolithographic mask blank comprising a transparent substrate having an opaque layer of a standard thickness is provided. Using a photoresist mask, the opaque layer is patterned and etched with openings to form opaque light blockers. The substrate under the openings is then etched to a predetermined depth using the same photoresist mask or the opaque layer as a hard mask. A phase shift material, such as silicon dioxide, is then deposited over the opaque light blockers and into the openings to form rim phase shifters on the sidewalls of the light blockers and light transmission areas in the openings. The depth of the etch into the substrate and the thickness of the opaque layer determines the amount of the phase shift. These parameters are controlled to achieve a phase shift of 180°or odd multiple thereof.

대표청구항 ▼

A method for forming a rim phase shifting mask for semiconductor manufacture comprising: forming an opaque layer having a thickness of “t”on a transparent substrate; forming a mask on the opaque layer; etching openings through the opaque layer to the substrate using the mask to form a pattern of opaque light blockers having sidewalls; etching the substrate aligned with the openings to a depth of “d”; removing the mask; and forming phase shifters on the sidewalls of the opaque light blockers and light transmission openings in the openings by conformally depositing a transparent phase shift layer over the opaque light blockers and the sidewalls and over the etched substrate into the openings to a thickness of “P”; said phase shift layer not being etched and remaining in said light transmission openings, such that said rim phase shifters have a width of “P”and a thickness of “t”+“d”+“P”with “t”and “d”selected for establishing a phase shift for light passing through a rim phase shifter relative to light passing through a light transmission opening.

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A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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