[특허]Alternating rim phase-shifting mask

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[미국특허] Alternating rim phase-shifting mask 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	G03F-009/00
출원번호	US-0968903 (1992-10-30)
발명자 / 주소	Lin Burn J. (Austin TX)
출원인 / 주소	International Business Machines Corporation (Armonk NY 02)
인용정보	피인용 횟수 : 15 인용 특허 : 0

초록 ▼

A phase-shifting mask consisting of phase shifting rim surrounding every pattern. The 0°and 180°areas defined by a straightforward rim phase-shifting mask are reversed alternately for closely packed patterns. This reversal can take the form of 0°to 180°and 180°to 0°as well as the form of 0°to 180°and 0°to -180°. For small opaque lines, the rim phase shifter may become the only picture element, leaving no mask absorber pattern inside the rim. Individual or uniform pattern sizing can be used to ensure a large common exposure-defocus window. Various fabrication techniques requiring or not requiring a second aligned exposure during mask fabrication, combining with several different forms of mask substrate are also described.

대표청구항

An ALRIM PSM consisting of rim phase shifters and reversed rim phase shifters.

이 특허를 인용한 특허 (15)

Liebmann, Lars W.; Fonseca, Carlos A.; Graur, Ioana; Lavin, Mark A., Alternating phase shift mask design with optimized phase shapes.
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Ma, Zhiliu; Yen, Anthony; Garza, Cesar, Attenuated rim phase shift mask.
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Kamat, Vishnu G.; Kroyan, Armen, Correcting 3D effects in phase shifting masks using sub-resolution features.
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Kamat,Vishnu G.; Kroyan,Armen, Correcting 3D effects in phase shifting masks using sub-resolution features.
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Kamat,Vishnu G.; Kroyan,Armen, Correcting 3D effects in phase shifting masks using sub-resolution features.
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Hsu Jung-Hsien (Hsin-Chu TWX) Lee Chung-Kuang (Hsin-Chu TWX) Tsai Chia S. (Hsin-Chu TWX), Fabrication of self-aligned attenuated rim phase shift mask.
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Song Young Jin,KRX, Method for fabricating a multistage phase shift mask.
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Tsai,Kao Tsair; Shiah,Chii Ming; Tung,Yu Cheng, Method for fabricating phase mask of photolithography process.
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Choi Yong Kyoo,KRX, Method for fabricating phase shifting mask.
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Hibbs Michael Straight ; Holmes Steven John ; Katnani Ahmad D. ; Moreau Wayne Martin ; Patel Niranjan Mohanlal, Method of making a rim-type phase-shift mask and mask manufactured thereby.
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Hsu Jung-Hsien,TWX ; Hsu Sung-Mu,TWX, Multi-phase mask using multi-layer thin films.
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Hong,Ji Suk, Photo mask and method of manufacturing the same, and method of forming photosensitive film pattern of using the photo mask.
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Le Chin (Boise ID) Pierrat Christophe (Boise ID), Process for generating a phase level of an alternating aperture phase shifting mask.
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Schroeder, Uwe Paul; Mono, Tobias; Klee, Veit, Resolution enhancement for alternating phase shift masks.
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Chang, Ya Hui; Wu, Tsiao Chen; Wang, Shih-Che, Structure design and fabrication on photomask for contact hole manufacturing process window enhancement.
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A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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