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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0482682 (1995-06-07) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 9 인용 특허 : 6 |
A method of removing free titanium from the edge of a substrate having a layer of titanium and a layer of titanium nitride thereover by forming a plasma of a nitrogen-containing gas. The plasma reacts with exposed free titanium to form titanium nitride therefrom. Preferably the dual Ti/TiN depositio
[ I claim:] [1.] A method of eliminating free exposed titanium from an edge of a substrate having sequentially sputtered layers of titanium and titanium nitride thereon, wherein a portion of said substrate was masked by a clamping ring during sputter deposition so that free titanium remains, compris
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