[특허]Mask defect repair system and method

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	G06K-009/00 G03F-009/00
출원번호	US-0670315 (1996-08-22)
우선권정보	JP-0217282 (1996-08-19)
발명자 / 주소	Nakamura Hiroko,JPX Sugihara Kazuyoshi,JPX Komano Haruki,JPX
출원인 / 주소	Kabushiki Kaisha Toshiba, JPX
대리인 / 주소	Oblon, Spiva, McClelland, Maier & Neustadt, P.C.
인용정보	피인용 횟수 : 18 인용 특허 : 0

초록 ▼

A mask defect repair system which repairs, by irradiating a particle beam, a defect on a mask made of a transparent substrate and a mask material formed on the substrate, includes an imaging beam irradiation unit for two-dimensionally scanning and irradiating the beam for imaging on a surface of the mask, a detector for detecting a first intensity distribution of secondary particles emitted from the surface of the mask by irradiation of the beam for imaging, an image processing unit for performing image processing of at least part of the first intensity distribution of the secondary particles to prepare a second intensity distribution, an image display unit for displaying the first and second intensity distributions as an image, an external input unit for setting, on the image, a desired region to be processed with the beam, an irradiation region determination unit for determining, on the desired region to be processed, a beam irradiation region on the basis of the second intensity distribution, a repair beam irradiation unit for irradiating the beam for a defect repair on the beam irradiation region, and a gas supply unit for supplying an etching gas or a deposition gas to the surface of the mask.

대표청구항 ▼

[ What is claimed is:] [1.] A mask defect repair system which repairs, by irradiating a particle beam, a defect on a mask made of a transparent substrate and a mask material formed on said substrate, comprising:imaging beam irradiation means for two-dimensionally scanning and irradiating the particle beam for imaging on a surface of said mask;detection means for detecting a first intensity distribution of secondary particles emitted from said surface of said mask by irradiation of the particle beam for imaging;image processing means for performing image processing of at least part of the first intensity distribution of the secondary particles to prepare a second intensity distribution;image display means for displaying the first and the second intensity distribution as an image composed of a plurality of pixels;external input means for setting, on the image, a desired region to be processed with the particle beam;irradiation region determination means for determining, on said desired region to be processed, a particle beam irradiation region on the basis of the second intensity distribution;repair beam irradiation means for irradiating the particle beam for a defect repair on said particle beam irradiation region; andgas supply means for supplying one of an etching gas and a deposition gas to said surface of said mask.

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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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