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[미국특허] On-site ammonia purification for semiconductor manufacture 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01D-003/00
출원번호 US-0037522 (1998-03-10)
발명자 / 주소
  • Hoffman Joe G.
  • Clark R. Scot
출원인 / 주소
  • Air Liquide America Corporation
대리인 / 주소
    Burns, Doane, Swecker & Mathis, L.L.P.
인용정보 피인용 횟수 : 9  인용 특허 : 26

초록 ▼

Highly purified ammonia for use in semiconductor manufacturing is prepared on-site by drawing ammonia vapor from a liquid ammonia reservoir, passing the vapor through a filter capable of filtering out particles of less than 0.005 micron in size, and scrubbing the filtered vapor in a high-pH aqueous

대표청구항 ▼

[ What is claimed is:] [1.] A method for the preparation of ultra-high-purity ammonia, said method comprising:(a) drawing ammonia gas from a vapor space above liquid ammonia in an ammonia-containing reservoir;(b) passing said ammonia gas through a unit whereby said ammonia gas is contacted with an a

이 특허에 인용된 특허 (26) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. McConnell Christopher F. (Gulph Mills PA) Walter Alan E. (Exton PA), Apparatus for treating wafers with process fluids.
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  2. Cowan Cathy L. (San Jose CA) Lau Stephen Y. (San Leandro CA), Block filter-purifier.
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  3. Dobson Jesse C. (Oakland CA) McCormick Marshall (Oakland CA), Distillation method and apparatus for reprocessing sulfuric acid.
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  4. Hayashi Nobuatsu (Abiko JPX) Takahashi Sankichi (Hitachi JPX) Ebara Katsuya (Mito JPX) Kurokawa Hideaki (Hitachi JPX) Yamada Akira (Hitachi JPX) Koseki Yasuo (Hitachiota JPX) Matsuzaki Harumi (Hitach, Distilling apparatus.
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  5. Clark R. Scot (Fallbrook CA) Baird Stephen S. (Vista CA) Hoffman Joe G. (Cardiff-By-The-Sea CA), Manufacture of high precision electronic components with ultra-high purity liquids.
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  6. Boghean Barry J. (St. Clair Beach NY CAX) Subbanna Somanahalli N. (East Amherst NY) Redmon Charles L. (Hamburg NY) Wamser Christian A. (Camillus NY), Manufacture of high purity low arsenic anhydrous hydrogen fluoride.
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  7. Jenczewski Theodore J. (Sherrill NY) Sturtevant Robert L. (Hamburg NY) Morgan Thomas R. (Jordan NY) Boghean Barry J. (St. Clair Beach CAX) Butt Donald C. (Brampton CAX), Manufacture of high purity low arsenic anhydrous hydrogen fluoride.
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  8. Davison John B. (Mission Viejo CA) Hsu Chung-Tseng (Laguna Hills CA), Method and apparatus for purifying hydrogen fluoride.
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  9. Clark R. Scot (Fallbrook CA) Hoffman Joe G. (Oceanside CA) Davison John B. (Mission Viejo CA) Jones Alan W. (San Clemente CA) Jones ; Jr. Allen H. (Carlsbad CA) Persichini David W. (Oceanside CA) Yua, Method and apparatus for the continuous on-site chemical reprocessing of ultrapure liquids.
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  10. Clark R. Scot (Fallbrook CA) Hoffman Joe G. (Oceanside CA) Davison John B. (Mission Viejo CA) Jones Alan W. (San Clemente CA) Jones ; Jr. Allen H. (Carlsbad CA) Persichini David W. (Oceanside CA) Yua, Method and apparatus for the continuous on-site chemical reprocessing of ultrapure liquids used in semiconductor wafer c.
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  11. McConnell Christopher F. (Gulph Mills PA) Walter Alan E. (Exton PA), Method and system for fluid treatment of semiconductor wafers.
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  12. Muromura ; Tadasumi, Method for drying an ammonia gas stream.
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  13. Clark R. Scot (Fallbrook CA) Davison John B. (Laguna Hills CA) Persichini David W. (Oceanside CA) Yuan Wallace I. (Irvine CA) Lipisko Bruce A. (Encinitas CA) Jones Alan W. (Mountain View CA) Jones ; , Method for making ultrapure sulfuric acid.
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  14. Shimizu Shumpei (Moses Lake WA) Yoshizako Mamoru (Machida JPX) Cho Toshitsura (Kawasaki JPX), Method for producing high purity chemicals.
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  15. Hoffman Joe G. (Cardiff-by-the-Sea CA) Clark R. Scot (Fallbrook CA), Point-of-use ammonia purification for electronic component manufacture.
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  16. Hoffman Joe G. ; Clark R. Scot, Point-of-use ammonia purification for electronic component manufacture.
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  17. Seseke-Koyro Ulrich (Vellmar DEX) Grossmann Andreas (Sehnde DEX) Rudolph Werner (Hanover DEX), Preparation of ultrapure hydrogen fluoride.
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  18. McConnell Christopher F. (Gulph Mills PA) Walter Alan E. (Exton PA), Process and apparatus for treating wafers with process fluids.
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  19. Hoiss Jakob (Ruffinistr. 8 D-8000 Mnchen 19 DEX), Process and device for purifying organically polluted waste water.
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  20. Ito Hideo (Yokkaichi JPX) Narukawa Mitsutoshi (Yokkaichi JPX) Sakai Kazuhiro (Yokkaichi JPX), Process for cleaning silicon mass and the recovery of nitric acid.
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  21. Brown Craig J. (Pickering CAX) Sheedy Michael A. (North York CAX), Process for regeneration of volatile acids.
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  22. Kirksey Kirby (Newark DE), Purification of hydrogen peroxide.
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  23. Westcott Robert D. (1073 N. Grant Canby OR 97013), Solvent recovery apparatus and method.
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  24. Tanaka Masato (Hikone JPX) Nishizawa Hisao (Hikone JPX) Hirai Nobuyuki (Hikone JPX) Shinbara Kaoru (Hikone JPX) Yoshioka Hitoshi (Hikone JPX), Wafer cleaning method and apparatus therefore.
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  25. Myers Henry S. (Irvine CA), Waste materials concentrator.
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  26. Aoki Syozo (Hino JPX) Kuse Satoru (Hino JPX) Koboshi Shigeharu (Sagamihara JPX), Waste solution treatment method and apparatus therefor.
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이 특허를 인용한 특허 (9) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Joe G. Hoffman ; Wallace I. Yuan, Ionic purifier.
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  2. Benderly, Abraham; DeCourcy, Michael Stanley; Myers, Ronald Eugene, Method and apparatus for preventing iron contamination in corrosive service.
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  3. Sateria,Salim; Holmer,Arthur Edward; Shrewsbury,Ronald William, Method for purifying semiconductor gases.
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  4. Chedid, Roland Bou; Iffland, Gabriele; Ciprian, Jürgen; Melder, Johann-Peter; Pape, Frank-Friedrich, Method for removing halogen from liquid ammonia.
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  5. Del Prato,Thomas A.; Spicer,Harold G., On-site generation, purification, and distribution of ultra-pure anhydrous ammonia.
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  6. Laederich Thierry,FRX ; Dulphy Herve,FRX, Process and apparatus for producing high-purity chemicals for the microelectronics industry.
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  7. Benderly, Abraham; Briegel, Keith Frederick; DeCourcy, Michael Stanley; Myers, Ronald Eugene, Process for ammonia recovery.
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  8. Dershowitz, Daniel J.; Mears, Ryan L.; Schnaith, Jay F.; Dove, Curtis; Mahapatra, Sadhana; Wadsworth, Kevin K., Process for producing ammonia with ultra-low metals content.
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  9. Starner, Thomas C., Purification of ammonia.
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