[특허]Method of reducing the formation of watermarks on semiconductor wafers

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[미국특허] Method of reducing the formation of watermarks on semiconductor wafers 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	H01L-021/322 H01L-021/335 H01L-021/8232 B08B-003/04
출원번호	US-0882057 (1997-06-25)
발명자 / 주소	Ramachandran Ravikumar
출원인 / 주소	Siemens Aktiengesellschaft, DEX
대리인 / 주소	Braden
인용정보	피인용 횟수 : 7 인용 특허 : 7

초록

A method for reducing the formation of watermarks includes providing a semiconductor wafer and contacting the semiconductor wafer with a solution containing a watermark reducing amount of at least one cationic surfactant.

대표청구항 ▼

[ What is claimed is:] [1.] A method of inhibiting the formation of watermarks on a semiconductor wafer comprising the steps of:a) providing a semiconductor wafer having at least one region with hydrophilic properties; andb) contacting the semiconductor wafer with a solution comprising a watermark inhibiting amount of a cationic surfactant to cause the at least one region with hydrophilic properties to appear to be hydrophobic, wherein the cationic surfactant comprises an alkyl amine.

이 특허에 인용된 특허 (7)

Akatsu Hiroyuki ; Ramachandran Ravikumar, Apparatus and method for improved washing and drying of semiconductor wafers.
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Inada Minoru,JPX ; Imajo Yasutaka,JPX ; Uchino Masahide,JPX, Cleaning method and cleaning apparatus.
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Pas Michael F. ; Park Jin-goo,KRX, De-ionized water/ozone rinse post-hydrofluoric processing for the prevention of silicic acid residue.
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Inada Minoru,JPX ; Kabuki Kimiaki,JPX ; Imajo Yasutaka,JPX ; Yagi Noriaki,JPX ; Saitoh Nobuhiro,JPX, Method for cleaning an object using an agent that includes a polyorganosiloxane or isoparaffin.
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McCoy Scott I. (Chicago IL), Process for cleaning quartz and silicon surfaces.
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Ohmi Tadahiro (Sendai JPX) Miki Nobuhiro (Osaka JPX) Kikuyama Hirohisa (Nara JPX), Surface treating composition for micro processing.
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McCormack Cheryl A. (Bay City MI) Williams Dwight E. (Midland MI), Two-step cleaning or dewatering with siloxane azeotropes.
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이 특허를 인용한 특허 (7)

Rayandayan,Ronald; Verhaverbeke,Steven; Wang,Hong, Cleaning method and solution for cleaning a wafer in a single wafer process.
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Verhaverbeke, Steven; Truman, J. Kelly, Cleaning method and solution for cleaning a wafer in a single wafer process.
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Verhaverbeke,Steven; Truman,J. Kelly, Cleaning method and solution for cleaning a wafer in a single wafer process.
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Verhaverbeke,Steven; Truman,Kelly, Cleaning method and solution for cleaning a wafer in a single wafer process.
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Yates, Donald L., Compositions for removal of processing byproducts and method for using same.
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Youfel Chen ; Brian J Brown ; Boris Fishkin ; Fred C Redeker, Method and apparatus for cleaning/drying hydrophobic wafers.
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Tucker, Wayne C.; Medeiros, Maria G.; Brown, Richard, Non-chromate metal surface etching solutions.
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A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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