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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0901803 (1997-07-28) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 50 인용 특허 : 22 |
A chemical mechanical polishing composition comprising a composition capable of etching tungsten and one inhibitor of tungsten etching and methods for using the composition to polish tungsten containing substrates.
[ What we claim is:] [1.] A chemical mechanical polishing composition comprising:a compound that is capable of etching tungsten; and at least one inhibitor of tungsten etching wherein the inhibitor of tungsten etching is a compound including at least one functional group selected from nitrogen conta
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