[특허]Low defect thin resist processing for deep submicron lithography

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[미국특허] Low defect thin resist processing for deep submicron lithography 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	G03F-070/04
출원번호	US-0336455 (1999-06-18)
발명자 / 주소	Lyons Christopher F.
출원인 / 주소	Advanced Micro Devices, Inc.
대리인 / 주소	Renner, Otto, Boisselle, & Sklar, LLP
인용정보	피인용 횟수 : 7 인용 특허 : 4

초록 ▼

In one embodiment, the present invention relates to a method of forming a short wavelength thin photoresist coating having a low defect density by depositing sequentially at least two discrete ultra-thin photoresist layers to form the short wavelength thin photoresist coating, each ultra-thin photoresist layer independently having a thickness from about from about 200 .ANG. to about 2,500 .ANG., the short wavelength thin photoresist coating, having a thickness of about 5,000 .ANG. or less.

대표청구항 ▼

[ What is claimed is:] [1.] A method of forming a short wavelength thin photoresist coating having a low defect density, comprising:depositing sequentially at least two discrete ultra-thin photoresist layers to form the short wavelength thin photoresist coating, each ultra-thin photoresist layer independently having a thickness from about from about 200 .ANG. to about 2,500 .ANG., the short wavelength thin photoresist coating having a thickness of about 5,000 .ANG. or less.

이 특허에 인용된 특허 (4)

Kim Ji-Hong,KRX ; Park Sun-Yi,KRX ; Kim Seong-Ju,KRX ; Park Joo-Hyeon,KRX, Acetal group-containing alkoxy-styrene polymers, method of preparing the same and chemical amplified photoresist composi.
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Meador Jim D. ; Shao Xie ; Krishnamurthy Vandana ; Murphy Earnest C. ; Flaim Tony D. ; Brewer Terry Lowell, Non-subliming mid-UV dyes and ultra-thin organic arcs having differential solubility.
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Lyons Christopher F. (LaGrangeville NY) Perreault Stanley E. (Wappingers Falls NY) Spinillo Gary T. (Wappingers Falls NY) Wood Robert L. (Poughkeepsie NY), Positive working photoresist composition containing mid or near UV radiation sensitive quinone diazide and sulfonic acid.
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Wang Fei ; Lyons Christopher F. ; Nguyen Khanh B. ; Bell Scott A. ; Levinson Harry J. ; Yang Chih Yuh, Ultra-thin resist and nitride/oxide hard mask for metal etch.
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이 특허를 인용한 특허 (7)

Larson, Carl Eric; Wallraff, Gregory Michael, Bilayer film including an underlayer having vertical acid transport properties.
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Larson,Carl Eric; Wallraff,Gregory Michael, Method for employing vertical acid transport for lithographic imaging applications.
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Latchford, Ian; Bencher, Christopher Dennis; Wang, Yuxiang; Silvetti, Mario Dave, Photolithography scheme using a silicon containing resist.
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Latchford,Ian; Bencher,Christopher Dennis; Wang,Yuxiang; Silvetti,Mario Dave, Photolithography scheme using a silicon containing resist.
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Bencher, Christopher Dennis, Removable amorphous carbon CMP stop.
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Bencher,Christopher Dennis, Removable amorphous carbon CMP stop.
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[특허] Photoresist defect reduction system and method

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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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