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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0436854 (2003-05-13) |
우선권정보 | CN-2000132275 (2000-11-14) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 3 |
A preparation method of silica, especially superfine silica, with water glass and carbon dioxide as major raw materials in a carbonization reaction conducted under a high gravity field, typically in a Higee reactor.
1. A method of making silica which uses water glass and CO 2 -containing gas as raw materials, comprising the following steps of: diluting the water glass, reacting the diluted water glass with a CO 2 -containing gas through a carbonization reaction, and post-treating the resultant to obtain silic
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