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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0423696 (2006-06-12) |
등록번호 | US-7432552 (2008-10-07) |
우선권정보 | KR-10-2005-0050107(2005-06-11) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 30 인용 특허 : 5 |
A body biasing structure of devices connected in series on an SOI substrate is provided. According to some embodiments, the shallow junction of common source/drain regions enables all devices to bias by only one body contact on an SOI substrate like a conventional bulk MOSFET, and the floating body
What is claimed is: 1. A body biasing structure for Silicon-On-Insulator (SOI) devices comprising: an SOI substrate; an active region in the SOI substrate comprising: a body biasing contact region; a common active region connected to the body biasing contact region; and a device active region conne
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