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Method for cleaning deposition chamber 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-009/04
  • B08B-009/02
출원번호 US-0158387 (2005-06-22)
등록번호 US-7497221 (2009-03-03)
우선권정보 KR-2001-0075117(2001-11-29)
발명자 / 주소
  • Cheong,Woo Seock
출원인 / 주소
  • Hynix Semiconductor Inc.
대리인 / 주소
    Marshall, Gerstein & Borun LLP
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 8

초록

A method for cleaning a tube-shaped chamber after performing at least one deposition process includes equipping a tube-shaped cleaner into a loading chamber, loading the tube-shaped cleaner into the tube-shaped chamber and injecting a cleaning gas, and cleaning the tube-shaped chamber using the tube

대표청구항

What is claimed is: 1. A method for cleaning an inside wall of a tubular deposition chamber after performing a deposition process, comprising: a) providing a tube cleaner in a loading chamber; b) loading the tube cleaner from the loading chamber into a tubular deposition chamber having an inside wa

이 특허에 인용된 특허 (8)

  1. Hokynar Jiri (Kaethe-Kollwitz-Strasse 3a 8033 Martinsried DEX), Apparatus for the treatment of semiconductor materials.
  2. Sugino Masao (Tokyo JPX), Loading lock for chemical vapor deposition apparatus.
  3. Vernon Stanley M. (Wellesley MA), Metal organic chemical vapor deposition of 111-v compounds on silicon.
  4. Biro Laszlo (Sindelfingen DEX) Malin Konrad (Dettenhausen DEX) Schmid Otto (Holzgerlingen DEX), Method of forming silicon and oxygen containing layers.
  5. Diem Michael (Orange CA) Fisk Michael A. (Anaheim CA) Goldman Jon C. (Orange CA), Process and apparatus for low pressure chemical vapor deposition of refractory metal.
  6. Smith John Z. ; Jones Martin ; McHugh Paul ; Weaver Robert A., Semiconductor processing furnace outflow cooling system.
  7. Iwai Hiroyuki (Sagamihara JPX) Tanifuji Tamotsu (Yamato JPX) Asano Takanobu (Yokohama JPX) Okura Ryoichi (Kanagawa-ken JPX), Treatment apparatus.
  8. Takanabe Eiichiro (Sagamihara JPX) Suzuki Takeo (Iruma JPX) Noguchi Tadataka (Kitakyushu JPX), Vertical heat-treating apparatus and heat-treating process by using the vertical heat-treating apparatus.
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