최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | UP-0315205 (2008-12-01) |
등록번호 | US-7712514 (2010-06-03) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 25 |
Methods for reducing inclusion content of sputter targets and targets so produced are disclosed. Inclusions may be reduced by adding a small amount of Si to the molten Al or molten Al alloy followed by filtering of the molten metals through a filter medium. Targets having substantially no inclusions
What is claimed is: 1. A method of making an aluminum or aluminum alloy sputter target adapted for sputtering of a flat panel display comprising: (a) determining a power density at which said flat panel display will be sputtered; (b) correlating said determined power density from said step (a) to a
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.