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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0794756 (2010-06-06) |
등록번호 | US-8147614 (2012-04-03) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 15 |
Embodiments of the disclosure generally provide a method and apparatus for processing a substrate in a vacuum process chamber. In one embodiment a vacuum process chamber is provided that includes a chamber body and lid disposed on the chamber body. A blocker plate is coupled to the lid and bounds a
1. A vacuum process chamber, comprising: a chamber body having a process volume defined therein;a lid disposed on the chamber body;a blocker plate coupled to the lid and bounding a staging plenum therewith, the blocker plate comprising a plurality of apertures;a gas distribution plate coupled to the
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